江丰电子称已掌握覆铜陶瓷基板 DBC 及 AMB 生产工艺,对公司发展带来哪些帮助?

2026-03-07 08:41:11 来源 : 网络 作者 : 魔法林财经网

覆铜(DBC)陶瓷基板工艺和应用

揭开DBC陶瓷基板的神秘面纱:卓越性能与广泛应用 电子技术的飞速发展,推动着芯片集成度的不断提升,电路布线的精细化进程中,功率密度的增加不可避免地带来热量积聚。这种现象对器件的稳定运行构成了挑战。然而,直接覆铜(DBC)陶瓷基板的出现,以其卓越的导热和导电性能,成为了电子封装领域的一股新势力,尤其是在功率模块(如IGBT)和集成电力电子模块中扮演着关键角色。本文将深入探讨DBC陶瓷基板的工艺、原理和应用价值。
DBC工艺的演变始于20世纪70年代,由J.F.Burgess和Y.S.Sun等先驱者提出。80年代中期,美国GE公司的DBC研发团队实现了这一技术的商业化,使其在制备技术、结合强度和热循环稳定性上取得了重大突破。如今,DBC技术的材料选择丰富多样,包括氧化铝(Al2O3)、氮化铝(AlN)和氧化锆增韧氧化铝(ZTA),如FJ Composite的S-DBC技术,其创新在于先在陶瓷表面沉积Ti层,再通过热压与铜层融合。 DBC工艺的精密工艺
DBC工艺的核心在于高温下的化学反应和金属化过程。通过在陶瓷表面直接烧结铜箔,DBC技术利用铜与氧的共晶液形成Cu-O化合物,形成稳定的陶瓷铜界面。这一过程确保了高导电性能和良好的结合力。如图S-DBC工艺所示,DBC与AMB和DBA等衍生物不断优化,拓宽了应用领域。 DBC陶瓷基板的卓越性能
DBC陶瓷基板集陶瓷的高强度、高绝缘、低膨胀性于一身,同时拥有铜的高导电性和优异焊接性。它能像PCB一样刻蚀出复杂线路,且具有以下关键特性: 绝缘性能超群:DBC基板有效隔绝芯片与散热底板,Al2O3或AlN陶瓷层提供高绝缘,耐压超过2.5KV。
导热性能卓越:DBC基板的热导率高达20-260W/mK,能快速散热,确保IGBT模块高效运行。
热膨胀系数与硅相近:与芯片材料匹配,防止因温差造成的应力损伤。
机械强度强:厚铜箔和高性能陶瓷组合,保证了DBC基板的耐用性和稳定性。
载流能力强:铜质导体支持高功率传输,满足大功率应用需求。 DBC的应用领域广泛,涵盖了LED封装、激光二极管、汽车传感器、红外热成像、5G通信、高端制冷设备、光伏和射频器件等多个高科技领域。
尽管新型陶瓷基板如AMB和DBA有所突破,DBC仍凭借其在功率密度和成本效益方面的优势,在市场中占据重要地位。国内DBC陶瓷基板厂商如江苏富乐华、浙江精瓷等,为这一行业的发展注入了强大的研发力量。 DBC陶瓷基板的出现,无疑是电子封装领域的一次重大革新,它以其独特的性能和广泛的应用前景,正在推动电子技术的进一步发展。随着科技的进步,DBC的潜力还将不断挖掘,为电子设备的高效、可靠运行提供更为坚实的基石。

dbc类型5:覆铜陶瓷基板

DBC类型的覆铜陶瓷基板是一种高性能的电子元件,它以其独特的Direct Bonding Copper(DBC)技术脱颖而出。这种基板的一大特点是其卓越的导热性能,能够有效地传输和散发热量,对于需要高效散热的电力电子和大功率模块应用来说,是一个理想的选择。
DBC基板的绝缘性能也非常出色,能够确保电子元件之间的信号传输不受干扰,提高系统的稳定性。它还具备大电流承载能力,能够支持高负载的工作环境,对于电力系统和大功率设备尤其重要。
在工艺方面,覆铜陶瓷基板的耐焊锡性优异,焊接过程中不易出现损坏,这显著简化了组装过程,降低了生产成本。另外,其附着强度高,能像传统的印刷电路板(PCB)一样,通过刻蚀技术轻松制作出各种复杂的线路图形,灵活性和定制性极高。
DBC覆铜陶瓷基板的应用领域广泛,涵盖了电力电子、航空航天等高技术领域,它的性能优势使其在这些领域中的应用得到广泛的认可和采用。

覆铜(DBC)陶瓷基板工艺和应用

1. 直接覆铜(DBC)陶瓷基板以其卓越的导热和导电性能,在电子封装领域扮演着关键角色,特别是在功率模块(如IGBT)和集成电力电子模块中。
2. DBC工艺的演变始于20世纪70年代,到了80年代中期,美国GE公司的研发团队实现了这一技术的商业化。
3. 如今,DBC技术的材料选择丰富多样,包括氧化铝(Al2O3)、氮化铝(AlN)和氧化锆增韧氧化铝(ZTA)。
4. DBC工艺的核心在于高温下的化学反应和金属化过程,这一过程确保了高导电性能和良好的结合力。
5. DBC陶瓷基板具有陶瓷的高强度、高绝缘、低膨胀性以及铜的高导电性和优异焊接性等卓越性能。
6. DBC陶瓷基板的特性包括:绝缘性能超群、导热性能卓越、热膨胀系数与硅相近、机械强度强以及载流能力强。
7. DBC的应用领域广泛,涵盖了LED封装、激光二极管、汽车传感器、红外热成像、5G通信、高端制冷设备、光伏和射频器件等多个高科技领域。
8. DBC陶瓷基板的出现是电子封装领域的一次重大革新,它以其独特的性能和广泛的应用前景,正在推动电子技术的进一步发展。

电子封装用陶瓷粉体及基板研究介绍

在电子封装领域,氮化铝凭借其卓越的热导性、电绝缘性能以及与硅的优异热膨胀系数,正成为散热基板和电子封装等领域不可或缺的基石。全球市场对陶瓷基板的需求预计将在2021-2029年间以6.57%的年复合增长率迅速膨胀,其中氮化铝作为AMB、DBC、DPC、HTCC和结构件等产品类型的主导,与新能源汽车和半导体行业的蓬勃发展密切相关。
全球供应商中,德山株式会社凭借HVPE技术,占据高纯氮化铝粉体市场75%的份额,其产品以其高纯度备受瞩目。东洋铝业的“TOYALNITE?”则以其出色的导热性和绝缘性,在电子机械和半导体应用中大放异彩。丸和集团的氮化铝高导热填料,更是电子封装材料中的关键元素。日本昭和电工在氮化铝相关技术上有所建树,其氮化铝填料在硬盘电路板中的应用,耐湿性优异,全球市场份额达到20%。
国内对于氮化铝的需求正在以惊人速度增长,预计到2025年,中国需求量将达到5,600吨。为此,国内企业如旭光电子在粉体制备技术上不断突破,寻求产能提升以满足市场需求。诸如国瓷、雅安百图、中铝山东和山东国瓷等企业纷纷推出高纯氮化铝粉体和陶瓷基板产品,积极推动行业技术进步。
例如,国瓷的高导热陶瓷基板项目,不仅年产3000吨氧化铝粉体和200吨氮化铝粉体,还生产大量基板,展现了强大的生产能力。合肥开尔纳米的特种纳米陶瓷粉体生产线也在不断壮大。苏州锦艺则提供无机非金属新材料的全面解决方案,山西柯佳源则专注于氮化物科技的研发,福建臻璟供应应用于5G通讯的高尖端氮化物材料,宁夏时星和秦氏新材料则展示了高性能氮化铝粉体的生产实力。
辽宁德盛特种陶瓷制造有限公司,作为氮化物陶瓷新材料的先驱,与中科院合作开发出具有国际先进纯度的氮化铝,山东鹏程陶瓷新材料科技有限公司则专注于高性能氮化硼陶瓷的生产。这些企业的发展,无疑推动了行业技术的革新和进步。
然而,高导热AlN陶瓷在高端电子设备中的应用,如5G、微波TR组件和IGBT模块,面临着声子散射机制的挑战,包括氧含量控制、烧结助剂选择以及微观结构优化。影响热导率的关键因素,如AlN晶粒尺寸、氧杂质、非晶层和烧结工艺,都在不断地被研究和优化。
总结来说,氮化铝陶瓷的未来发展趋势在于通过精细的工艺调控和材料优化,降低晶界相、减少非晶层,提高晶粒纯度,从而实现热导率的显著提升。这不仅需要科研机构与企业的紧密合作,也对材料供应商提出了更高的要求,以创新的解决方案满足日益增长的市场需求。
尽管面临诸多技术挑战,但随着科技的不断进步和创新,氮化铝陶瓷的热导率潜力被广泛看好,为电子封装领域开辟了新的可能。让我们期待未来,这些精密材料将在电子设备的散热和性能提升中发挥关键作用。

AMB活性金属钎焊法,陶瓷与金属的完美结合

AMB(Active Metal Brazing)活性金属钎焊法是一种在DBC技术基础上发展而来,用于将陶瓷与金属封接的方法。相较于传统的DBC基板,采用AMB工艺制备的陶瓷基板,不仅拥有更高的热导率、更佳的铜层结合力、热阻更小和可靠性更高,而且操作简便、时间周期短、封接性能优良,并且适用于广泛的陶瓷材料。这使得AMB工艺在国内外迅速发展,成为电子器件中常用的一种封接方法。
AMB工艺的核心在于在钎料中加入活性元素,通过化学反应在陶瓷表面形成反应层,以提高钎料在陶瓷表面的润湿性,实现陶瓷与金属的直接钎焊封接。主要选用Ti、Zr、Hf等金属元素作为焊料,因它们处于元素周期表的过渡区间,能与陶瓷表面的氧、碳、氮或硅发生化学键合,并在低于各自熔点的温度下与Cu、Ni、Ag-Cu等形成合金,从而在陶瓷表面形成反应层,增加陶瓷的金属特性,使钎焊合金能有效地润湿和扩散。反应层还能在热膨胀系数不匹配的接头表面形成过渡层,减少热引起的残余应力。
值得注意的是,AMB的封接性能相比通过金属化法制备样品的性能偏低。因此,迫切需要研发高性能的AMB工艺,以提高钎焊产品的质量。活性元素的含量应在2wt.%~8wt.%之间,过高会导致钎料脆性增大,降低封接面的强度;过低则会降低钎料对陶瓷的润湿性,影响封接过程。
AMB工艺主要应用于功率半导体模块,如氧化铝、氮化铝和氮化硅基板等陶瓷材料。其中,氧化铝陶瓷因其来源广泛、成本低廉,成为性价比最高的AMB陶瓷基板,工艺成熟,具有高硬度、耐高温、抗腐蚀、耐磨以及良好的绝缘性能。然而,由于其热导率较低,AMB氧化铝基板多用于功率密度不高且对可靠性要求不严格的领域。
氮化铝陶瓷由于具有高热导率、低介电常数、与单晶硅匹配的热膨胀系数及良好的电绝缘性能,成为微电子工业中电路基板封装的理想材料。目前,AMB工艺的氮化铝陶瓷基板(AMB-AlN)主要用于高铁、高压变换器、直流送电等高压、高电流功率半导体中,但在应用中受限于机械强度较低的特性。
氮化硅陶瓷基板具有较高的热导率、厚铜层以及较高的热容量和传热性,特别适用于将较厚的铜层焊接到相对较薄的AMB-SiN陶瓷上,以提高载流能力、传热性能,并且与SiC芯片具有良好的热匹配性,适用于裸芯片的可靠封装。AMB-SiN陶瓷基板在新能源汽车、光伏逆变器、风力涡轮机和高压直流传动装置等应用场景中,因其高可靠性、高散热性能和局部放电控制能力,成为首选的基板材料。
全球AMB陶瓷基板市场规模从2022年的4.3亿美元,预计到2029年将增长至28亿美元,复合年增长率(CAGR)为26%。电动汽车的快速增长、SiC器件的加速应用以及新能源汽车市场的持续增长,是AMB基板需求增长的主要驱动力。AMB基板作为SiC器件的核心配套材料,虽然成本较高,但随着SiC上车在新能源汽车领域的突破,市场需求将得以释放。随着碳化硅器件在电动汽车、光伏新能源、轨道交通等行业的广泛应用,全球碳化硅行业产能将面临供给不足的情况,各大厂商的扩产计划将有助于产业链景气度的提升,SiC衬底产业也将直接受益于行业的发展。新能源汽车市场的快速增长,尤其是中国和欧洲市场的强劲增长,成为推动全球电动汽车销量增长的关键因素,预计未来AMB陶瓷基板市场将持续增长。

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